重生千禧大玩家 第1099节(1 / 4)

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  “了不起啊,小陆,你们了不起啊。”
  沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65nm干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”
  “哪里,哪里,领导。”
  陆飞露出谦虚而内敛的笑容。
  “说说吧,到底是怎么搞出来的?”
  沙领导眼里满是赞赏之色。
  “其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”
  陆飞笑道:“duv浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”
  顿了顿,“可以说,这台duv浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的euv光刻机,只有一代的代差了。”
  “生产7nm的良品率是多少?”
  郑韩脸上挂着得意的笑容。
  毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。
  “不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”
  陆飞比比画画道:“完全可以比肩amsl,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7nm制程工艺。”
  沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗?”
  陆飞点了下头,“没错,7nm是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5nm。”
  “5nm是不是就需要euv光刻机了?”
  郑韩好奇道。
  “有euv光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7nm、5nm,但没有euv光刻机也无妨,有这台duv浸润式光刻机也可以做到。”
  陆飞露出个看似轻松的笑容。
  “喔?”
  顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。
  “梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。
  一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”
  “还有良率。”
  “是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”
  领导们来回分析,议论纷纷。
  陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前euv光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”
  “比如呢?”
  沙领导投去问询的目光。 ↑返回顶部↑

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